MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：4
- 题名/责任者:
- 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用/张海洋等编著
- 版本说明:
- 2版
- 出版发行项:
- 北京:清华大学出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-302-61439-5/CNY149.00
- 载体形态项:
- 423页:照片，图;26cm
- 丛编项:
- 高端集成电路制造工艺丛书
- 个人责任者:
- 张海洋 编著
- 学科主题:
- 大规模集成电路-集成电路工艺-等离子刻蚀
- 中图法分类号:
- TN405.98
- 一般附注:
- “十三五”国家重点图书出版规划项目
- 提要文摘附注:
- 本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。
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