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题名/责任者:

衍射极限附近的光刻工艺/伍强等编著

出版发行项:

北京:清华大学出版社,2020

ISBN及定价:

978-7-302-53742-7/CNY168.00

载体形态项:

19,653页:照片，图;26cm

并列正题名:

Photolithography process near the diffraction limit

丛编项:

高端集成电路制造工艺丛书

个人责任者:

伍强 (物理学) 编著

学科主题:

光刻设备

中图法分类号:

TN305.7

一般附注:

2019年国家出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目

提要文摘附注:

本书以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，给读者一个整体的图景。

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