MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：15
- 题名/责任者:
- 光学元件磁流变抛光理论与关键技术/石峰, 宋辞著
- 出版发行项:
- 北京:国防工业出版社,2023.7
- ISBN及定价:
- 978-7-118-12997-7 精装/CNY128.00
- 载体形态项:
- xx, 292页:图 (部分彩图);25cm
- 个人责任者:
- 石峰 著
- 个人责任者:
- 宋辞 著
- 学科主题:
- 光学元件-抛光-研究
- 中图法分类号:
- TH74
- 一般附注:
- 国防科技图书出版基金
- 书目附注:
- 有书目 (第266-274页)
- 提要文摘附注:
- 本书内容包括: 第一章-第六章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究, 主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行深入研究和实验验证; 第七章-第十二章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引, 针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究, 旨在实现面形误差和特征量参数双重约束条件下的离轴非球面光学零件的磁流变抛光, 形成基于磁流变抛光技术的加工工艺路线, 从而进一步提高我国离轴非球面光学零件的制造水平。
- 使用对象附注:
- 本书适用于光学元件抛光研究者
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