MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：7
- 题名/责任者:
- 光学元件磁流变抛光理论与关键技术/石峰，宋辞著
- 出版发行项:
- 北京:国防工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-118-12997-7 精装/CNY128.00
- 载体形态项:
- 20,292页:图，照片;24cm
- 个人责任者:
- 石峰 著
- 个人责任者:
- 宋辞 著
- 学科主题:
- 光学元件-抛光-研究
- 中图法分类号:
- TH74
- 一般附注:
- 国防科技图书出版基金
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第1-6章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行研究和实验验证；第7-12章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究。
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