MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：5
- 题名/责任者:
- 光刻技术/林本坚(Burn J. Lin)著 严天宏译
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2024
- ISBN及定价:
- 978-7-122-45151-4 精装/CNY198.00
- 载体形态项:
- 369页:图;26cm
- 个人责任者:
- 林本坚 (Lin, Burn J.) 著
- 个人次要责任者:
- 严天宏 译
- 学科主题:
- 光刻系统
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 一般附注:
- 芯科技
- 版本附注:
- SPIE授权出版 据原书第2版译出
- 出版发行附注:
- 限中国大陆发行
- 提要文摘附注:
- 本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识，学习曝光系统和图像形成的基础理论，并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识；读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况，加强对半导体制造技术的认知；还添加了接近印刷方面的全新材料，以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料，以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。
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