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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:20

题名/责任者:
集成电路与光刻机/王向朝,戴凤钊等著
出版发行项:
北京:科学出版社,2020
ISBN及定价:
978-7-03-065792-3/CNY58.00
载体形态项:
133页:图,照片;21cm
并列正题名:
Integrated circuit and lithographic tool
个人责任者:
王向朝 (光学) 著
个人责任者:
戴凤钊
学科主题:
集成电路
学科主题:
光刻设备
中图法分类号:
TN4
中图法分类号:
TN305.7
一般附注:
国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”支持
提要文摘附注:
本书共8章,主要内容包括:集成电路发展历程、集成电路制造工艺、光刻机技术的发展、光刻机整机系统、光刻机曝光光源、光刻机关键分系统、计算光刻、光刻机成像质量的提升。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
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