MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：5
- 题名/责任者:
- 现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程/李艳丽，伍强编著
- 出版发行项:
- 北京:清华大学出版社,2024
- ISBN及定价:
- 978-7-302-66418-5 精装/CNY128.00
- 载体形态项:
- 11,329页:图，彩照;26cm
- 并列正题名:
- Advanced lithography process r&d methodology and procedures in modern integrated circuit factories
- 丛编项:
- 先进集成电路工艺技术丛书
- 个人责任者:
- 李艳丽 编著
- 个人责任者:
- 伍强 编著
- 学科主题:
- 光刻设备-研究
- 中图法分类号:
- TN305.7
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