MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：5
- 题名/责任者:
- 先进计算光刻/李艳秋[等]著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2024
- ISBN及定价:
- 978-7-03-078124-6 精装/CNY130.00
- 载体形态项:
- 233页:图;24cm
- 个人责任者:
- 李艳秋 著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-电子束光刻
- 中图法分类号:
- TN405.98
- 一般附注:
- 国家科学技术学术著作出版基金资助出版
- 题名责任附注:
- 著者还有：马旭、孙义钰、袁森
- 提要文摘附注:
- 本书介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。
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