MARC状态：订购 文献类型：中文图书 浏览次数：6
- 题名/责任者:
- 半导体先进光刻理论与技术/(德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著 李思坤译
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2023.08
- ISBN及定价:
- 978-7-122-43276-6 精装/CNY198.00
- 载体形态项:
- 304页:图，照片;24cm
- 个人责任者:
- (德) 爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著
- 个人次要责任者:
- 李思坤 译
- 学科主题:
- 半导体光电器件-光刻设备-研究
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 版本附注:
- SPIE授权出版
- 出版发行附注:
- 限中国大陆发行
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。
- 使用对象附注:
- 本书适用于从事光刻技术研究与应用的科研与工程技术人员
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