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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:10

题名/责任者:
画法几何与阴影透视:从绘图到设计/中央美术学院主编 钟予编著
出版发行项:
北京:中国建筑工业出版社,2008
ISBN及定价:
978-7-112-10402-4/CNY26.00
载体形态项:
120页:图;28cm
其它题名:
从绘图到设计
个人次要责任者:
钟予 编著
团体责任者:
中央美术学院 主编
学科主题:
画法几何-高等学校-教材
学科主题:
建筑制图-透视投影-高等学校-教材
中图法分类号:
O185.2
中图法分类号:
TU204
一般附注:
全国高等美术院校建筑与环境艺术设计专业规划教材
提要文摘附注:
与《全国高等美术院校建筑与环境艺术设计专业实验教学丛书》以特色教学为主有所不同的是,本规划教材将更多关注美术院校背景下的基础、技术和理论的普适性教学。作为美术院校的规划教材,不仅应该把学科最基本、最重要的科学事实、概念、原理、方法、价值观等反映到教材中,还应该反映美术学院的办学定位、培养目标和教学、生源特点。美术院校教学与社会现实关系密切,特别强调对生活现实的体验和直觉感知,因此,规划教材从需要从生活现实中获得灵感和鲜活的素材,需要与实际保持紧密而又生动具体的关系。规划教材内容除了反映基本的专业教学需求外,期待根据美院情况,增加与社会现实紧密相关的应用知识,减少枯燥冗余的知识堆砌。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TU204/58 A00092916   密集书库 (图书定位请点击这里)    借出-应还日期: 密集书库
TU204/58 A00304680   密集书库 (图书定位请点击这里)    借出-应还日期: 密集书库
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