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MARC状态:订购 文献类型:中文图书 浏览次数:11

题名/责任者:
Zemax光学设计从基础到实践/张玺, 唐钦编著
出版发行项:
北京:化学工业出版社,2024
ISBN及定价:
978-7-122-45464-5/CNY118.00
载体形态项:
379页:图;27cm
个人责任者:
张玺 编著
个人责任者:
唐钦 编著
学科主题:
光学设计-研究
中图法分类号:
TN202
提要文摘附注:
本书讲解了利用Zemax 2023进行光学设计和仿真分析的各种方法和技巧,主要内容包括光学设计基础、认识Ansys Zemax OpticStudio、初识镜头数据编辑器、光学成像镜头设计、镜头编辑高级操作、光学系统分析、非序列模式设计、几何光学像质评价、物理光学像质评价、光学系统的优化、光学系统公差分析和光学系统设计实例等。
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