检索到 9 条 分类号=TN305.7 的结果
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中文图书1.现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程
馆藏复本：0
可借复本：0 李艳丽，伍强编著
清华大学出版社 2024
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中文图书2.光刻技术
馆藏复本：0
可借复本：0 林本坚(Burn J. Lin)著
化学工业出版社 2024
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中文图书3.半导体干法刻蚀技术 TN305.7/6
馆藏复本：2
可借复本：2 (日)野尻一男著
机械工业出版社 2024.01
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中文图书4.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN305.7/3
馆藏复本：3
可借复本：3 (美)索斯藤·莱尔(Thorsten Lill)著
机械工业出版社 2023.09
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中文图书5.等离子体刻蚀工艺及设备 TN305.7/5
馆藏复本：2
可借复本：2 赵晋荣主编
电子工业出版社 2023.02
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中文图书6.半导体湿法刻蚀加工技术 TN305.7/4
馆藏复本：2
可借复本：2 陈云，陈新著
科学出版社 2023.09
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中文图书7.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/2
馆藏复本：3
可借复本：3 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书8.集成电路与光刻机 TN4/36
馆藏复本：4
可借复本：2 王向朝，戴凤钊等著
科学出版社 2020
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中文图书9.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/1
馆藏复本：3
可借复本：2 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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