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中文图书1.半导体先进光刻理论与技术
馆藏复本:0
可借复本:0 (德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著
化学工业出版社 2023.08
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中文图书2.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/2
馆藏复本:3
可借复本:3 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书3.光刻巨人:ASML崛起之路 F456.366/1
馆藏复本:4
可借复本:2 (荷兰)瑞尼·雷吉梅克著
人民邮电出版社 2020
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中文图书4.集成电路与光刻机 TN4/36
馆藏复本:4
可借复本:2 王向朝,戴凤钊等著
科学出版社 2020
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中文图书5.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/1
馆藏复本:3
可借复本:2 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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