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• 010 __ |a 978-7-122-45151-4 |b 精装 |d CNY198.00

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• 200 1_ |a 光刻技术 |A guang ke ji shu |b 专著 |d Optical lithography: here is why |f 林本坚(Burn J. Lin)著 |g 严天宏译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2024

• 215 __ |a 369页 |c 图 |d 26cm

• 300 __ |a 芯科技

• 305 __ |a SPIE授权出版 据原书第2版译出

• 306 __ |a 限中国大陆发行

• 330 __ |a 本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识，学习曝光系统和图像形成的基础理论，并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识；读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况，加强对半导体制造技术的认知；还添加了接近印刷方面的全新材料，以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料，以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。

• 510 1_ |a Optical lithography: here is why |z eng

• 606 0_ |a 光刻系统

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _0 |a 林本坚 |A lin ben jian |c (Lin, Burn J.) |4 著

• 702 _0 |a 严天宏 |A yan tian hong |4 译

• 801 _2 |a CN |b 58marc.cn |c 20240922