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• 200 1_ |a 纳米集成电路制造工艺 |A Na Mi Ji Cheng Dian Lu Zhi Zao Gong Yi |9 na mi ji cheng dian lu zhi zao gong yi |b 专著 |d Nanoscale integrated circuits -- the manufacturing process |f 张汝京等编著 |z eng

• 205 __ |a 2版

• 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2017

• 215 __ |a 14,471页 |c 图 |d 26cm

• 330 __ |a 本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM(Design for Manufacturing)，集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。

• 510 1_ |a Nanoscale integrated circuits - the manufacturing process |z eng

• 606 0_ |a 纳米材料 |A Na Mi Cai Liao |x 集成电路工艺

• 690 __ |a TN405 |v 5

• 701 _0 |a 张汝京 |A Zhang Ru Jing |9 zhang ru jing |4 编著

• 801 _0 |a CN |b GDPTC |c 20181017

• 905 __ |a GDPTC |d TN405/3=2