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• 010 __ |a 978-7-03-065792-3 |d CNY58.00

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 集成电路与光刻机 |9 ji cheng dian lu yu guang ke ji |b 专著 |d Integrated circuit and lithographic tool |f 王向朝，戴凤钊等著 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2020

• 215 __ |a 133页 |c 图，照片 |d 21cm

• 300 __ |a 国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”支持

• 330 __ |a 本书共8章，主要内容包括：集成电路发展历程、集成电路制造工艺、光刻机技术的发展、光刻机整机系统、光刻机曝光光源、光刻机关键分系统、计算光刻、光刻机成像质量的提升。

• 510 1_ |a Integrated circuit and lithographic tool |z eng

• 606 0_ |a 集成电路

• 606 0_ |a 光刻设备

• 690 __ |a TN4 |v 5

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _0 |a 王向朝 |9 wang xiang zhao |c (光学) |4 著

• 701 _0 |a 戴凤钊 |9 dai feng zhao |4 著

• 801 _0 |a CN |b GDPTC |c 20210701

• 905 __ |a GDPTC |d TN4/36