机读格式显示(MARC)
- 000 01643nam0 2200325 450
- 010 __ |a 978-7-5159-2103-7 |b 精装 |d CNY68.00
- 100 __ |a 20220921d2022 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 等离子体技术基础 |A deng li zi ti ji shu ji chu |f (马来) 乔·山·王, (泰) 拉塔查特·蒙空那温著 |d = Elements of plasma technology |f Chiow San Wang, Rattachat Mongkolnavin |g 刘佳琪, 任爱民, 邬润辉译 |z eng
- 210 __ |a 北京 |c 中国宇航出版社 |d 2022
- 215 __ |a 138页 |c 图 |d 22cm
- 306 __ |a 本书中文简体字版由著作权人授权中国宇航出版社独家出版发行
- 330 __ |a 本书共四章, 主要内容包括等离子体技术中的基本概念与特性、等离子体生成方法、等离子体实验技术和诊断技术、小型等离子体设备的试验实例等。本书作者对等离子体的基本概念、理论、规律和研究方法的阐述与讨论既简明直观, 又不失其严谨性; 书中介绍的等离子体生成技术, 包含了不同放电机理和不同等离子体源条件, 内容完整具体; 书中介绍等离子体实验和等离子体诊断技术, 给出了等离子体的电特性测量、密度测量、温度测量、组分测量等各种等离子体诊断的原理, 数据获取设备、数据判读和数据处理的方法, 结果全面实用。
- 510 1_ |a Elements of plasma technology |z eng
- 606 0_ |a 等离子体应用 |A deng li zi ti ying yong
- 701 _1 |a 王 |A wang |g (Wang, Chiow San) |4 著
- 701 _1 |a 蒙空那温 |A meng kong na wen |g (Mongkolnavin, Rattachat) |4 著
- 702 _0 |a 刘佳琪 |A liu jia qi |4 译
- 702 _0 |a 任爱民 |A ren ai min |4 译
- 702 _0 |a 邬润辉 |A wu run hui |4 译
- 801 _0 |a CN |b 湖北三新 |c 20220921
- 905 __ |a GDPTC |d O539/1