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• 010 __ |a 978-7-302-61439-5 |d CNY149.00

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• 200 1_ |a 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用 |A deng li zi ti shi ke ji qi zai da gui mo ji cheng dian lu zhi zao zhong de ying yong |b 专著 |f 张海洋等编著

• 205 __ |a 2版

• 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2023

• 215 __ |a 423页 |c 照片，图 |d 26cm

• 225 1_ |a 高端集成电路制造工艺丛书

• 300 __ |a “十三五”国家重点图书出版规划项目

• 330 __ |a 本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。

• 510 1_ |a Plasma etching and its application in large scale integrated circuit manufacturing |z eng

• 606 0_ |a 大规模集成电路 |x 集成电路工艺 |x 等离子刻蚀

• 690 __ |a TN405.98 |v 5

• 701 _0 |a 张海洋 |A zhang hai yang |4 编著

• 801 _2 |a CN |b 58marc.cn |c 20230310