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• 010 __ |a 978-7-302-53742-7 |d CNY168.00

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• 102 __ |a CN |b 110000

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 衍射极限附近的光刻工艺 |9 yan she ji xian fu jin de guang ke gong yi |b 专著 |d Photolithography process near the diffraction limit |f 伍强等编著 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2020

• 215 __ |a 19,653页 |c 照片，图 |d 26cm

• 225 1_ |a 高端集成电路制造工艺丛书 |9 gao duan ji cheng dian lu zhi zao gong yi cong shu

• 300 __ |a 2019年国家出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目

• 330 __ |a 本书以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，给读者一个整体的图景。

• 510 1_ |a Photolithography process near the diffraction limit |z eng

• 606 0_ |a 光刻设备 |9 guang ke she bei

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _0 |a 伍强 |9 wu qiang |c (物理学) |4 编著

• 801 _0 |a CN |b GDPTC |c 20210629

• 905 __ |a GDPTC |d TN305.7/1