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• 010 __ |a 978-7-118-12997-7 |b 精装 |d CNY128.00

• 100 __ |a 20230919d2023 em y0chiy0110 ea

• 101 0_ |a chi |d eng |e eng

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• 200 1_ |a 光学元件磁流变抛光理论与关键技术 |A guang xue yuan jian ci liu bian pao guang li lun yu guan jian ji shu |b 专著 |d Magnetorheological polishing theory and key technology of optical components |f 石峰，宋辞著 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 国防工业出版社 |d 2023

• 215 __ |a 20,292页 |c 图，照片 |d 24cm

• 300 __ |a 国防科技图书出版基金

• 330 __ |a 本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第1-6章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行研究和实验验证；第7-12章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究。

• 510 1_ |a Magnetorheological polishing theory and key technology of optical components |z eng

• 606 0_ |a 光学元件 |x 抛光 |x 研究

• 690 __ |a TH74 |v 5

• 701 _0 |a 石峰 |A shi feng |4 著

• 701 _0 |a 宋辞 |A song ci |4 著

• 801 _2 |a CN |b 58marc.cn |c 20231027